Won-Yong Lee
한양대학교 공과대학
Professor
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하이 임팩트 태그
ACS Appl. Mater. InterfacesAdv. Sci.Adv. Funct. Mater.
연구 키워드
알럼나이가 간 회사
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연구실 논문 목록
Improving etchability and imaging performance of EUV mask absorber materials via ion implantation
2026 Applied Physics A-Materials Science & Processing
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Effect of Grain-Size Control on Mechanical and Optical Properties of ZrSi2 Membranes for Extreme Ultraviolet Pellicles
2026 Crystals
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Development of Extreme Ultraviolet Pellicles Based on Yttrium Core with Amorphous Carbon Capping Layer
2026 Electronic Materials Letters
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연구실 보유 특허
특허명EUV pellicle structure and method for manufacturing same
출원번호PCT/KR2017/000263 (2017-01-09)
공개번호US 10,962,876 (2021-03-30)
특허명Photon-flux 보상을 통한 EUV mask 검사 정확도 향상 기법과 그 장치
출원번호PCT/KR2026/001287 (2026-01-21)
공개번호데이터가 존재하지 않습니다
특허명다공성 펠리클 식각 시 core 층 측면을 보호하기 위한 구조 및 그 형성 방법
출원번호10-2025-0212191 (2025-12-29)
공개번호데이터가 존재하지 않습니다
최근 3년간 연구실적 높은 연구실
