연구실 | 나노공정 및 소자 연구실 (Nano Process and Device Laboratory)

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안진호

한양대학교 공과대학 (서울)

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연구실 대우 조건은 교수님의 과제 상황 및 석사·박사 학위 과정(재학·진학 여부 등)에 따라 상이합니다. 구체적인 지원 혜택과 연구 참여 형태는 면접 및 협의 과정에서 결정됩니다.

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연구실 논문 목록

Thermal atomic layer deposition of SiNx protective coatings for hydrogen plasma-resistant carbon nanotube pellicles

2026 Applied Surface Science

Citation0

Young Woo Kang, Haneul Kim, Inseo Lee, Taeho Lee, In-Sung Park, Jinho Ahn

Atomic layer processing for Ångström-scale precision in 3D-integrated semiconductor manufacturing

2026 International Journal of Extreme Manufacturing

Citation0

Hae Lin Yang, Min Chan Kim, Gi-Beom Park, Ji-Yeon Park, Hyein Park, Jihoon Shin, ...

Improving etchability and imaging performance of EUV mask absorber materials via ion implantation

2026 Applied Physics A-Materials Science & Processing

Citation0

Yunsoo Kim, Dongmin Jeong, Seungho Lee, Bom-Sok Kim, Myung-Jin Kim, Taeho Lee, ...

연구실 보유 특허

특허명EUV pellicle structure and method for manufacturing same

출원번호PCT/KR2017/000263 (2017-01-09)

공개번호US 10,962,876 (2021-03-01)

특허명소스/드레인 2-step 증착을 통한 다층 메모리 소자 제조 방법

출원번호PCT/KR2026/095496 (2026-04-03)

공개번호데이터가 존재하지 않습니다

특허명Photon-flux 보상을 통한 EUV mask 검사 정확도 향상 기법과 그 장치

출원번호PCT/KR2026/001287 (2026-01-21)

공개번호데이터가 존재하지 않습니다

회사명: 주식회사 아웃스탠더스

주소: 서울시 노원구 광운로 15길 51, 3

대표: 李智優

사업자등록번호: 129-88-02423

직업정보제공사업신고번호: J1205020250003

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