본 연구실은 플라즈마 물성 연구 및 진단, 플라즈마 가열 메커니즘 및 플라즈마 식각(etching) 메커니즘 연구, 대기압 플라즈마 발생 및 제어, 차세대 플라즈마 소스 개발, 전자기 및 유동 시뮬레이션, 무선 전력 전송 개발 등을 하고 있으며, 최신 플라즈마 진단 기술을 반도체 공정 장비에 적용할 수 있으며 실시간 모니터링 센서(In-Situ Process Monitoring Sensors)의 개발도 하고 있습니다.
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